Belgija – Laboratorinė, optinė ir precizinė įranga (išskyrus akinius) – FEOL ETCH CLUSTER

Belgija – Laboratorinė, optinė ir precizinė įranga (išskyrus akinius) – FEOL ETCH CLUSTER

I dalis: Perkančioji organizacija

I.1) Pavadinimas ir adresai:

Oficialus pavadinimas: Imec EU Pilot line NV
Adresas: Kapeldreef 75
Miestas: Heverlee
Pašto kodas: 3001
Šalis: Belgija
Asmuo ryšiams:
El-paštas: tom.wauters@imec.be
Interneto adresas (-ai):
Pagrindinis adresas:

II dalis: Objektas

II.1.1) Pavadinimas:

FEOL ETCH CLUSTER
Nuorodos numeris: JPA2025ID17A

II.1.2) Pagrindinis BVPŽ kodas:

38000000 Laboratorinė, optinė ir precizinė įranga (išskyrus akinius)

II.1.3) Sutarties tipas:

Kita

II.1.4) Trumpas aprašymas:

300mm Dry Etch Platform bestaande uit een Process Module zoals hieronder omschreven: i. Conductor Dry Ether met ICP (Inductively Coupled Plasma) RF Source Power en Dual Bottom Bias capability (RF Bias + DC Pulse Bias aan 400kHz) ii. Deze Process Module moet het vermogen hebben om RF Bias en DC Bias te superponeren. Deze Process Module is bedoeld voor verschillende FEOL-toepassingen voor N2 technologie node en verder, in het bijzonder CFET (Complementary Field Effect Transistor) toepassingen inclusief maar niet beperkt tot CFET Nanosheet Etch, CFET Full Gate Etch en CFET Source/Drain Recess. Er moeten minimaal 6 procesmoduleslots beschikbaar zijn op het platform voor een mogelijke capaciteits- en functionaliteitsupgrade. Het platform moet minimaal 5 laadpoorten bevatten.

II.2) Aprašymas:

II.2.1) Kitas (-i) šio pirkimo BVPŽ kodas (-ai):

38000000 Laboratorinė, optinė ir precizinė įranga (išskyrus akinius)